Die neue Technologie bietet eine 1,5-fach höhere Verschleißfestigkeit durch branchenweit führende Gleichmäßigkeit bei der Ausrichtung der…
Schlagwort: CVD
Steigert Leistung von Halbleitern: Japanisches Unternehmen entwickelt neuartigen Ruthenium-Präkursor
“TRuST”-Präkursor von TANAKA verbessert die Filmbildungsgeschwindigkeit bei der Gasphasen- und Atomlagenabscheidung “TRuST” Präkursor für CVD and…